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 Three dimensional mask effects in OPC process model development from first principles simulation 基于第一性原理仿真的OPC工艺模型开发中的三维掩模效应
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期刊：Proceedings of SPIE, the International Society for Optical Engineering/Proceedings of SPIE 作者：Lawrence S. Melvin; Thomas Schmoeller; Christian K. Kalus; Jianliang Li 出版日期：2008-03-31 |
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