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 Carbon Hard Mask Opening Process Development with Novel Sidewall Passivation in Memory Manufacturing 存储器制造中具有新型侧壁钝化的碳硬掩模开口工艺的开发
相关领域
钝化
材料科学
蚀刻（微加工）
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期刊： 作者：Mengjiao Zhu; Li-Tian Xu; Jing Wang; Li Zeng; Zi-Han Zhang 出版日期：2023-06-26 |
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