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 One Nanometer HfO2‐Based Ferroelectric Tunnel Junctions on Silicon 硅上纳米HfO2基铁电隧道结
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硅
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期刊：Advanced electronic materials 作者：Suraj Cheema; Nirmaan Shanker; Cheng-Hsiang Hsu; Adhiraj Datar; Jong‐Ho Bae; et al 出版日期：2021-09-29 |
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