Intrafield process control for 45 nm CMOS logic patterning

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标题	Intrafield process control for 45 nm CMOS logic patterning 45 nm CMOS逻辑图案化的场内工艺控制相关领域十字线 CMOS芯片控制逻辑逻辑门薄脆饼足迹光刻计算机科学过程控制过程（计算）扫描仪电子工程电气工程工程类光电子学物理计算机硬件古生物学生物操作系统
网址	https://doi.org/10.1117/12.812571
DOI	10.1117/12.812571 doi
其它	期刊：Proceedings of SPIE, the International Society for Optical Engineering/Proceedings of SPIE 作者：Bertrand Le Gratiet; Jean Massin; Alain Ostrovski; C. Monget; Marianne Decaux; et al 出版日期：2009-03-13
求助人	BroRooney_ 在 2024-12-25 09:28:29 发布自广东，悬赏 20 积分
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