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 Development of Highly stable ceria slurry in acetic acid-ammonium acetate buffer Media for effective chemical mechanical polishing of silicon dioxide 用于二氧化硅有效化学机械抛光的醋酸-醋酸铵缓冲介质中高稳定性氧化铈浆料的研制
相关领域
材料科学
醋酸
泥浆
二氧化硅
醋酸铵
抛光
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缓冲器（光纤）
化学工程
硅
铵
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冶金
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期刊：Materials Science in Semiconductor Processing 作者：Min Liu; Baoguo Zhang; Jihoon Seo; Wenhao Xian; Dexing Cui; et al 出版日期：2024-04-08 |
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