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标题
Long Time Atmospheric Oxidation Followed by Hydrofluoric Etching and Hydrosilylation for High‐Efficiency Light‐Emitting Silicon Quantum Dots
长时间常压氧化氢氟酸刻蚀硅氢化制备高效发光硅量子点
相关领域
硅氢加成 材料科学 蚀刻（微加工） 氢氟酸 硅 光电子学 量子点 纳米技术 冶金 有机化学 催化作用 化学 图层（电子）
网址
https://doi.org/10.1002/adom.202302422
DOI
10.1002/adom.202302422 doi
其它 期刊：Advanced Optical Materials
作者：Qiang He; Kun Wang; Dongke Li; Xiaodong Pi; Xiaodong Pi
出版日期：2024-02-22
求助人
范白容 在 2024-10-14 16:15:01 发布自山东，悬赏 10 积分
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