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标题
Understanding and Control of Polymer Distribution in Photoresists Using Liquid Chromatography for Enhanced Lithography Performance
利用液相色谱法了解和控制光刻胶中聚合物的分布以提高光刻性能
相关领域
极紫外光刻 光刻胶 平版印刷术 抵抗 聚合物 材料科学 光刻 纳米技术 计算光刻 X射线光刻 光电子学 复合材料 图层（电子）
网址
https://doi.org/10.1021/acsapm.3c01953
DOI
10.1021/acsapm.3c01953 doi
其它 期刊：ACS applied polymer materials
作者：Kyuhyun Im; Chang Heon Lee; Minsang Kim; Iason Giannopoulos; Dimitrios Kazazis; et al
出版日期：2023-11-16
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苹果冰安 在 2024-12-02 08:22:54 发布自浙江，悬赏 10 积分
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