Extreme Ultraviolet Lithographic Performance and Reaction Mechanism of Polymeric Resist─Utilizing Radical- and Acid-Amplified Cross-Linking

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标题	Extreme Ultraviolet Lithographic Performance and Reaction Mechanism of Polymeric Resist─Utilizing Radical- and Acid-Amplified Cross-Linking 高分子抗蚀剂的极紫外光刻性能及反应机理──自由基和酸放大交联法相关领域抵抗平版印刷术极紫外光刻机制（生物学）材料科学光化学紫外线反应机理极端紫外线化学高分子化学纳米技术光电子学光学有机化学物理催化作用激光器图层（电子）量子力学
网址	https://doi.org/10.1021/acs.chemmater.3c02628
DOI	10.1021/acs.chemmater.3c02628 doi
其它	期刊：Chemistry of Materials 作者：Bilal Abbas Naqvi; Satoshi Enomoto; Kohei Machida; Yui Takata; Takahiro Kozawa; et al 出版日期：2024-02-01
求助人	所念皆星河在 2024-11-21 16:13:03 发布自天津，悬赏 10 积分
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