High aspect ratio tilted gratings through local electric field modulation in plasma etching

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标题	High aspect ratio tilted gratings through local electric field modulation in plasma etching 等离子体刻蚀中局部电场调制高深宽比倾斜光栅相关领域蚀刻（微加工）倾斜（摄像机）电场材料科学反应离子刻蚀硅等离子体刻蚀光学等离子体垂直的基质（水族馆）光电子学各向同性腐蚀纳米技术几何学物理海洋学地质学量子力学数学图层（电子）
网址	https://doi.org/10.1016/j.apsusc.2022.152938
DOI	10.1016/j.apsusc.2022.152938 doi
其它	期刊：Applied Surface Science 作者：Zhitian Shi; Konstantins Jefimovs; Antonino La Magna; Marco Stampanoni; L. Romano 出版日期：2022-06-01
求助人	momo 在 2024-08-06 15:58:49 发布自广东，悬赏 10 积分
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