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[高分]
 学位论文 Design and analysis of a scanning beam interference lithography system for patterning gratings with nanometer-level distortions 用于纳米级畸变光栅图案化的扫描光束干涉光刻系统的设计与分析
相关领域
干涉光刻
纳米
平版印刷术
材料科学
干扰（通信）
光学
梁（结构）
电子束光刻
光电子学
纳米技术
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医学
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期刊： 作者：Paul T. Konkola 出版日期：2003-01-01 |
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