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 Dual beam laser annealing for contact resistance reduction and its impact on VLSI integrated circuit variability 双光束激光退火降低接触电阻及其对VLSI集成电路可变性的影响
相关领域
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期刊： 作者：Zuoguang Liu; Oleg Gaidai; Hiroaki Niimi; Bei Liu; Juntao Li; et al 出版日期：2017-06-01 |
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