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 Suppression of Oxide and Interface Charge Density in Radio Frequency Sputtered Ta2O5 Thin Films 射频溅射Ta2O5薄膜中氧化物和界面电荷密度的抑制
相关领域
材料科学
分析化学（期刊）
溅射
溅射沉积
薄膜
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光电子学
纳米技术
复合材料
化学
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期刊：physica status solidi (a) 作者：Kiran Kumar Sahoo; D. Pradhan; Anurag Gartia; Surya Prakash Ghosh; Jyoti Prakash Kar 出版日期：2023-11-22 |
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