Suppression of Oxide and Interface Charge Density in Radio Frequency Sputtered Ta2O5 Thin Films

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标题	Suppression of Oxide and Interface Charge Density in Radio Frequency Sputtered Ta2O5 Thin Films 射频溅射Ta2O5薄膜中氧化物和界面电荷密度的抑制相关领域材料科学分析化学（期刊）溅射溅射沉积薄膜形成气体电介质退火（玻璃）光电子学纳米技术复合材料化学色谱法
网址	https://doi.org/10.1002/pssa.202300292
DOI	10.1002/pssa.202300292 doi
其它	期刊：physica status solidi (a) 作者：Kiran Kumar Sahoo; D. Pradhan; Anurag Gartia; Surya Prakash Ghosh; Jyoti Prakash Kar 出版日期：2023-11-22
求助人	傲娇的大字奶在 2024-08-25 10:51:57 发布自河南，悬赏 10 积分
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