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标题
Observation of semiconductor device channel strain using in-line high resolution X-ray diffraction
用在线高分辨X射线衍射观察半导体器件沟道应变
相关领域
互易晶格 衍射 材料科学 硅 X射线晶体学 锗 外延 半导体 合金 光电子学 结晶学 光学 纳米技术 化学 复合材料 物理 图层（电子）
网址
https://doi.org/10.1063/1.4824819
DOI
10.1063/1.4824819 doi
其它 期刊：Journal of Applied Physics
作者：J. Holt; Anita Madan; Eric C. Harley; M. W. Stoker; Teresa Pinto; et al
出版日期：2013-10-15
求助人
小笼包 在 2025-04-25 19:41:33 发布自上海，悬赏 10 积分
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