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 Bias-Voltage Photoconductance Measurements for Determining Interface Properties of SiO2/ Al2O3 Passivation Stacks Deposited on Silicon 用于确定沉积在硅上的SiO2/Al2O3钝化堆叠层界面性质的偏压光电导测量
相关领域
钝化
硅
材料科学
光电子学
电压
接口（物质）
工程物理
电气工程
复合材料
图层（电子）
工程类
毛细管数
毛细管作用
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| 其它 |
期刊： 作者：Christian Reichel 出版日期：2024-06-09 |
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