标题 |
β- Ga 2 O 3 epitaxial films deposited on epi-GaN/sapphire (0001) substrates by MOCVD
用MOCVD法在epi-GaN/蓝宝石(0001)衬底上沉积β-Ga2O3外延薄膜
相关领域
材料科学
金属有机气相外延
X射线光电子能谱
无定形固体
外延
蓝宝石
分析化学(期刊)
退火(玻璃)
化学气相沉积
微晶
薄膜
氮化镓
光电子学
结晶学
光学
纳米技术
激光器
化学工程
化学
冶金
物理
工程类
色谱法
图层(电子)
|
网址 | |
DOI | |
其它 |
期刊:Materials Science in Semiconductor Processing 作者:Qiong Cao; Linan He; Hongdi Xiao; Xianjin Feng; Yuanjie Lv; et al 出版日期:2018-02-04 |
求助人 | |
下载 | 暂无链接,等待应助者上传 |
温馨提示:该文献已被科研通 学术中心 收录,前往查看
科研通『学术中心』是文献索引库,收集文献的基本信息(如标题、摘要、期刊、作者、被引量等),不提供下载功能。如需下载文献全文,请通过文献求助获取。
|