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标题
Novel Cyclosilazane-Type Silicon Precursor and Two-Step Plasma for Plasma-Enhanced Atomic Layer Deposition of Silicon Nitride
用于等离子体增强氮化硅原子层沉积的新型环硅氮烷型硅前驱体和两步等离子体
相关领域
材料科学 原子层沉积 硅 氮化硅 蚀刻（微加工） 氢 等离子体 氮化物 化学吸附 化学气相沉积 薄膜 图层（电子） 分析化学（期刊） 纳米技术 吸附 光电子学 物理化学 化学 有机化学 物理 量子力学
网址
https://doi.org/10.1021/acsami.7b19741
AI链接 nih.govdoi.org
DOI
10.1021/acsami.7b19741 doi
其它 期刊：ACS Applied Materials & Interfaces
作者：Jaemin Park; Se Jin Jang; Sang-Ick Lee; Won‐Jun Lee
出版日期：2018-02-20
求助人
行周 在 2024-11-29 11:10:44 发布自上海，悬赏 10 积分
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