Effect of deposition rate and annealing on Nb thin film growth on Cu substrate: Molecular dynamics simulation

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标题	Effect of deposition rate and annealing on Nb thin film growth on Cu substrate: Molecular dynamics simulation 沉积速率和退火对Cu衬底上Nb薄膜生长的影响：分子动力学模拟相关领域分子动力学退火（玻璃）材料科学薄膜基质（水族馆）化学工程沉积（地质）化学物理纳米技术冶金化学计算化学地质学工程类古生物学海洋学沉积物
网址	https://doi.org/10.1016/j.vacuum.2024.113548
DOI	10.1016/j.vacuum.2024.113548 doi
其它	期刊：Vacuum 作者：M. Lablali; Hassane Mes-Αdi; M. Mazroui 出版日期：2024-08-14
求助人	刘行在 2025-02-25 15:44:08 发布自安徽，悬赏 10 积分
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