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 Planar Hall effect of indium antimonide thin film on silicon and nickel–zinc ferrite substrates 硅和镍锌铁氧体衬底上锑化铟薄膜的平面霍尔效应
相关领域
材料科学
锑化铟
霍尔效应
铁氧体（磁铁）
欧姆接触
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凝聚态物理
磁场
复合材料
光电子学
量子力学
物理
图层（电子）
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期刊：Journal of Materials Science 作者：Wonyoung Kim; Joonyeon Chang; Suk-Hee Han 出版日期：2006-06-19 |
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