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 Atomic-Scale Cellular Model and Profile Simulation of Si Etching: Analysis of Profile Anomalies and Microscopic Uniformity 硅刻蚀的原子尺度胞元模型和轮廓模拟：轮廓异常和微观均匀性分析
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期刊：Japanese Journal of Applied Physics 作者：Hirotaka Tsuda; Masahito Mori; Yoshinori Takao; Koji Eriguchi; Kouichi Ono 出版日期：2010-08-01 |
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