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标题
Atomic-Scale Cellular Model and Profile Simulation of Si Etching: Analysis of Profile Anomalies and Microscopic Uniformity
硅刻蚀的原子尺度胞元模型和轮廓模拟：轮廓异常和微观均匀性分析
相关领域
蚀刻（微加工） 离子 反应离子刻蚀 等离子体 焊剂（冶金） 等离子体刻蚀 化学 材料科学 分析化学（期刊） 分子物理学 纳米技术 图层（电子） 物理 冶金 有机化学 量子力学 色谱法
网址
https://doi.org/10.1143/jjap.49.08je01
DOI
10.1143/jjap.49.08je01 doi
其它 期刊：Japanese Journal of Applied Physics
作者：Hirotaka Tsuda; Masahito Mori; Yoshinori Takao; Koji Eriguchi; Kouichi Ono
出版日期：2010-08-01
求助人
StevenZhao 在 2024-11-06 15:32:43 发布自湖北，悬赏 10 积分
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