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 Electronic and Chemical Properties of Nickel Oxide Thin Films and the Intrinsic Defects Compensation Mechanism 氧化镍薄膜的电子和化学性质及本征缺陷补偿机制
相关领域
非阻塞I/O
镍
氧化镍
X射线光电子能谱
材料科学
薄膜
晶界
微晶
溅射
工作职能
化学工程
纳米技术
冶金
复合材料
微观结构
金属
化学
工程类
生物化学
催化作用
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期刊：ACS applied electronic materials 作者：Raphaël Poulain; Gunnar Lumbeeck; Jonas Hunka; Joris Proost; Henri Savolainen; et al 出版日期：2022-06-07 |
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