The influence of reflectivity on EUV lithography performance of low-n and binary masks for random logic via implementation

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标题	The influence of reflectivity on EUV lithography performance of low-n and binary masks for random logic via implementation 反射率对随机逻辑用低n和二元掩模EUV光刻性能的影响
网址	https://doi.org/10.1117/12.3034348
DOI	10.1117/12.3034348 doi
其它	期刊：Photomask Technology 2024 作者：Ling Ee Tan; Fergo Treska; Werner Gillijns; Jeroen Van de Kerkhove; Peter De Bisschop; et al 出版日期：2024
求助人	小张真的困啦在 2025-02-17 14:48:25 发布自中国，悬赏 20 积分
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