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标题
Physical model-based ArF photoresist formulation development
基于物理模型的ArF光刻胶配方开发
相关领域
光刻胶 纳米技术 材料科学 计算机科学 图层(电子)
网址
DOI
10.1063/5.0186648 doi
其它 期刊:AIP Advances
作者:Liwan Yue; Zhibiao Mao; Qiang Wu; Yanli Li; Yanqiu Li
出版日期:2024-02-01
求助人
花花猪1989 在 2025-02-18 11:19:53 发布自北京,悬赏 10 积分
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