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标题
Wet-chemical etching of SiO2 and PSG films, and an etching-induced defect in glass-passivated integrated circuits
SiO2和PSG薄膜的湿化学刻蚀及玻璃钝化集成电路中的刻蚀缺陷
相关领域
氢氧化钾 氢氟酸 多孔硅 蚀刻（微加工） 硅 材料科学 各向同性腐蚀 钝化 光致发光 强度（物理） 光电子学 化学工程 纳米技术 光学 冶金 物理 图层（电子） 工程类
网址
http://dx.doi.org/10.1016/0026-2714(87)90099-0
DOI
10.1016/0026-2714(87)90099-0 doi
求助人
biliobili 在 2024-12-19 23:47:47 发布自上海，悬赏 10 积分
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