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标题
Effects of rf-bias power on plasma parameters in a low gas pressure inductively coupled plasma
射频偏压功率对低压电感耦合等离子体参数的影响
相关领域
等离子体 感应耦合等离子体 原子物理学 温度电子 电子密度 等离子体参数 化学 等离子体诊断 消散 材料科学 分析化学（期刊） 物理 热力学 色谱法 量子力学
网址
https://doi.org/10.1063/1.3293295
DOI
10.1063/1.3293295 doi
其它 期刊：Applied Physics Letters
作者：Hyo‐Chang Lee; Min-Hyong Lee; Chin‐Wook Chung
出版日期：2010-02-15
求助人
李昂岚 在 2025-01-16 16:48:32 发布自四川，悬赏 10 积分
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