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 Study of 193nm photoresist degradation during short time fluorocarbon plasma exposure III. Effect of fluorocarbon film and initial surface condition on photoresist degradation 193nm光刻胶在短时间氟碳等离子体暴露过程中的降解研究III。氟碳膜和初始表面条件对光刻胶降解的影响
相关领域
光刻胶
氟碳化合物
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期刊：Journal of Vacuum Science & Technology B Microelectronics and Nanometer Structures Processing Measurement and Phenomena 作者：Masahiro Sumiya; Robert L. Bruce; Sebastian Engelmann; F. Weilnboeck; G. S. Oehrlein 出版日期：2008-11-01 |
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