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标题
Difference Between Atomic Layer Deposition TiAl and Physical Vapor Deposition TiAl in Threshold Voltage Tuning for Metal Gated NMOSFETs
原子层沉积TiAl和物理气相沉积TiAl在金属栅NMOSFET阈值电压调谐中的差异
相关领域
原子层沉积 材料科学 物理气相沉积 图层(电子) 沉积(地质) 电极 化学气相沉积 符号 金属 气相沉积 金属浇口 薄膜 电压 复合材料 冶金 光电子学 纳米技术 物理 晶体管 数学 算术 栅氧化层 量子力学 生物 古生物学 沉积物
网址
DOI
10.1109/led.2021.3124801 doi
其它 期刊:IEEE Electron Device Letters
作者:Zhao-Yang Li; Xuejiao Wang; Han-Lun Cai; Zhao-Zhang Yan; Yu-Long Jiang; et al
出版日期:2021-12-01
求助人
李花花 在 2024-11-29 16:02:59 发布自广东,悬赏 10 积分
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