XPS studies of the nitridation of MoO3 thin films on alumina and silica supports

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标题	XPS studies of the nitridation of MoO3 thin films on alumina and silica supports 氧化铝和二氧化硅载体上MoO3薄膜氮化的XPS研究相关领域 X射线光电子能谱煅烧材料科学基质（水族馆）薄脆饼结合能金属硅氧化物分析化学（期刊）薄膜铝冶金化学工程纳米技术化学催化作用工程类生物化学海洋学物理色谱法核物理学地质学
网址	https://doi.org/10.1016/s0169-4332(98)00343-2
DOI	10.1016/s0169-4332(98)00343-2 doi
其它	期刊：Applied Surface Science 作者：Y.L. Leung; P.C. Wong; Meisu Zhou; K.A.R. Mitchell; Kevin J. Smith 出版日期：1998-11-01
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