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 Low-temperature plasma atomic layer etching of molybdenum via sequential oxidation and chlorination 顺序氧化氯化低温等离子体原子层刻蚀钼
相关领域
钼
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期刊：Journal of vacuum science & technology 作者：Yebin Lee; Yong-Jae Kim; Ji-Won Son; Heeyeop Chae 出版日期：2022-03-01 |
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