标题 |
Characterization of tunnel oxide passivated contact fabricated by sputtering and ion implantation technique
溅射——离子注入技术制备隧道氧化物钝化触头的表征
相关领域
材料科学
钝化
离子注入
多晶硅
制作
溅射
硅
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光电子学
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薄膜晶体管
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其它 |
期刊:Japanese Journal of Applied Physics 作者:Noboru Yamaguchi; Shasha Li; Shinsuke Miyajima 出版日期:2023-03-22 |
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