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Direct Photolithography Patterning of Quantum Dot‐Polymer
量子点聚合物的直接光刻图案化
相关领域
光刻
光掩模
材料科学
量子点
纳米技术
平版印刷术
聚合物
计算光刻
纳米压印光刻
光电子学
制作
多重图案
抵抗
医学
替代医学
图层(电子)
病理
复合材料
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其它 |
期刊:Advanced Functional Materials 作者:Weishu Guo; Jun Chen; Teng Ma; Ziyi Chen; Mulin Li; et al 出版日期:2023-11-23 |
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