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 Growth rate of yttria-stabilized zirconia thin films formed by electrochemical vapor-deposition using NiO as an oxygen source 以NiO为氧源的电化学气相沉积氧化钇稳定氧化锆薄膜的生长速率
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期刊：Solid State Ionics 作者：Minoru Inaba; Atsushi Mineshige; Tomoyuki Maeda; Shinji Nakanishi; Tadayoshi Takahashi; et al 出版日期：1997-01-01 |
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