High mobility tungsten-doped indium oxide (IWO) deposited by room-temperature RF sputtering in pure argon plasma - 科研通

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标题	High mobility tungsten-doped indium oxide (IWO) deposited by room-temperature RF sputtering in pure argon plasma 纯氩等离子体室温射频溅射沉积高迁移率钨掺杂氧化铟相关领域材料科学铟钨溅射氩透明导电膜兴奋剂钝化防反射涂料异质结工作职能光电子学冶金原子物理学纳米技术薄膜图层（电子）物理
网址	https://doi.org/10.1016/j.mssp.2024.108780
DOI	10.1016/j.mssp.2024.108780 doi
其它	期刊：Materials Science in Semiconductor Processing 作者：Francesca Menchini; L. Serenelli; Luca Martini; Glauco Stracci; E. Salza; et al 出版日期：2024-09-03
求助人	花开米兰城在 2025-02-08 14:32:01 发布自江苏，悬赏 10 积分
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