Imaging performance of EUV lithography optics configuration for sub-9nm resolution

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标题	Imaging performance of EUV lithography optics configuration for sub-9nm resolution 亚9nm分辨率EUV光刻光学结构的成像性能相关领域极紫外光刻光学自适应光学平版印刷术光学成像计算机科学图像分辨率极端紫外线分辨率（逻辑）计量学物理人工智能激光器
网址	https://doi.org/10.1117/12.2175658
DOI	10.1117/12.2175658 doi
其它	期刊：Proceedings of SPIE, the International Society for Optical Engineering/Proceedings of SPIE 作者：Jens Timo Neumann; Matthias Rösch; Paul Gräupner; Sascha Migura; Bernhard Kneer; et al 出版日期：2015-03-16
求助人	balabala 在 2024-05-02 23:37:43 发布自山东，悬赏 20 积分
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