Effect of Substitutional and Interstitial Boron-Doped NiCo2S4 on the Electronic Structure and Surface Adsorption: High Rate and Long-Term Stability

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标题	Effect of Substitutional and Interstitial Boron-Doped NiCo2S4 on the Electronic Structure and Surface Adsorption: High Rate and Long-Term Stability 取代和间隙硼掺杂NiCo2S4对电子结构和表面吸附的影响：高速率和长期稳定性相关领域吸附硼兴奋剂期限（时间）理论（学习稳定性）材料科学曲面（拓扑）结晶学化学
网址	https://pubs.acs.org/doi/pdf/10.1021/acsaem.1c04033
DOI	10.1021/acsaem.1c04033 doi
其它	期刊：ACS Applied Energy Materials 作者：Lei Li; Lili Song; Xiaoyun Zhang; Shifan Zhu; Yuqiao Wang 出版日期：2022-02-11
求助人	感性的之卉在 2025-03-12 23:34:34 发布自四川，悬赏 10 积分
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