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  A Highly Hydroxylated 6-Tin Oxide Cluster Serves as An Efficient E-beam and EUV-Photoresist to Reach High-Resolution Patterns 高度羟基化的6-氧化锡簇用作有效的电子束和EUV光致抗蚀剂以获得高分辨率图案
相关领域
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光刻胶
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锡
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物理
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期刊：Nanoscale Advances 作者：C. H. Li; C. S. Chou; Yu‐Fang Tseng; B. N. Lin; Tsai-Sheng Gau; et al 出版日期：2025-01-01 |
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