| 标题 |
 Influence of nitrogen flow rates on iron nitride thin films prepared by DC reactive magnetron sputtering 氮气流量对直流反应磁控溅射氮化铁薄膜的影响
相关领域
材料科学
薄膜
结晶度
扫描电子显微镜
分析化学（期刊）
氮化物
表面粗糙度
溅射
基质（水族馆）
溅射沉积
氮化硅
氮气
薄脆饼
复合材料
硅
纳米技术
冶金
化学
图层（电子）
有机化学
地质学
海洋学
色谱法
|
| 网址 | |
| DOI | |
| 其它 |
期刊：Materials Today Proceedings 作者：K. Jantasom; Mati Horprathum; Pitak Eiamchai; Saksorn Limwichean; Noppadon Nuntawong; et al 出版日期：2017-01-01 |
| 求助人 | |
| 下载 | 该求助完结已超 24 小时，文件已从服务器自动删除，无法下载。 |
|
温馨提示：该文献已被科研通 学术中心 收录，前往查看
科研通『学术中心』是文献索引库，收集文献的基本信息（如标题、摘要、期刊、作者、被引量等），不提供下载功能。如需下载文献全文，请通过文献求助获取。
|
cdercder
SYLH
默默地读文献
back you up
昏睡的蟠桃
迷人秋烟
121231233
科研小民工
劲秉
nozero
MchemG
iNk
子车茗
HEIKU
高大凌寒
pluto
zho
科研321
剑指东方是为谁
有人
皖公网安备34019202002308
