Organosulfur Precursor for Atomic Layer Deposition of High-Quality Metal Sulfide Films

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标题	Organosulfur Precursor for Atomic Layer Deposition of High-Quality Metal Sulfide Films 用于原子层沉积高质量金属硫化物薄膜的有机硫前驱体相关领域原子层沉积有机硫化合物石英晶体微天平镍硫化物硫黄 X射线光电子能谱金属材料科学硫化镍化学无机化学纳米技术化学工程薄膜有机化学吸附工程类
网址	https://doi.org/10.1021/acs.chemmater.0c02505
DOI	10.1021/acs.chemmater.0c02505 doi
其它	期刊：Chemistry of Materials 作者：Hao Li; Ran Zhao; Jiahao Zhu; Zheng Guo; Wei Xiong; et al 出版日期：2020-09-22
求助人	Qo日不落o永霞在 2025-04-22 22:28:16 发布自黑龙江，悬赏 10 积分
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