标题 |
Improvement of the critical temperature of superconducting NbTiN and NbN thin films using the AlN buffer layer
利用AlN缓冲层提高超导NbTiN和NbN薄膜的临界温度
相关领域
材料科学
电阻率和电导率
薄膜
图层(电子)
纤锌矿晶体结构
超导电性
缓冲器(光纤)
溅射
衍射
光电子学
复合材料
分析化学(期刊)
光学
凝聚态物理
纳米技术
冶金
电气工程
物理
工程类
锌
化学
色谱法
|
网址 | |
DOI | |
其它 |
期刊:Superconductor Science and Technology 作者:T. Shiino; Shoichi Shiba; Nami Sakai; T. Yamakura; Ling Jiang; et al 出版日期:2010-03-03 |
求助人 | |
下载 | 该求助完结已超 24 小时,文件已从服务器自动删除,无法下载。 |
温馨提示:该文献已被科研通 学术中心 收录,前往查看
科研通『学术中心』是文献索引库,收集文献的基本信息(如标题、摘要、期刊、作者、被引量等),不提供下载功能。如需下载文献全文,请通过文献求助获取。
|