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 Suppression of Crystallization Process in Atomic Layer Deposited Hafnium Oxide Films 原子层沉积氧化铪薄膜晶化过程的抑制
相关领域
结晶
铪
图层（电子）
材料科学
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氧化物
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期刊：Thin Solid Films 作者：Yanrui Li; Songwen Deng; Gang Li; Jun‐Tao Li; Qipeng Lv; et al 出版日期：2024-07-01 |
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