Precursor Development and Application for Atomic Layer Deposition

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标题	Precursor Development and Application for Atomic Layer Deposition 原子层沉积前驱体的研制与应用相关领域原子层沉积微电子材料科学纳米技术薄膜金属沉积（地质）图层（电子）电介质氧化物数码产品化学气相沉积化学工程光电子学化学冶金物理化学古生物学工程类生物沉积物
网址	https://doi.org/10.1149/ma2014-02/30/1618
DOI	10.1149/ma2014-02/30/1618 doi
其它	期刊：Meeting abstracts/Meeting abstracts (Electrochemical Society. CD-ROM) 作者：Taek‐Mo Chung 出版日期：2014-08-05
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