标题 |
Ultra-high vacuum deposition and characterization of silicon nitride thin films
氮化硅薄膜的超高真空沉积与表征
相关领域
材料科学
椭圆偏振法
薄膜
分析化学(期刊)
氮化硅
硅
卢瑟福背散射光谱法
氮化物
氧化硅
远程等离子体
光电子学
化学气相沉积
化学
纳米技术
色谱法
图层(电子)
|
网址 | |
DOI | |
求助人 | |
下载 | 该求助完结已超 24 小时,文件已从服务器自动删除,无法下载。 |
温馨提示:该文献已被科研通 学术中心 收录,前往查看
科研通『学术中心』是文献索引库,收集文献的基本信息(如标题、摘要、期刊、作者、被引量等),不提供下载功能。如需下载文献全文,请通过文献求助获取。
|