Sensitizers in extreme ultraviolet chemically amplified resists: mechanism of sensitivity improvement

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标题	Sensitizers in extreme ultraviolet chemically amplified resists: mechanism of sensitivity improvement 极紫外化学放大电阻中的增敏剂：增敏机理相关领域抵抗光刻胶溶解极紫外光刻次级电子极端紫外线吸收（声学）光化学材料科学紫外线吸光度化学纳米技术光电子学电子光学有机化学激光器图层（电子）复合材料物理量子力学色谱法
网址	https://doi.org/10.1117/1.jmm.17.4.043506
DOI	10.1117/1.jmm.17.4.043506 doi
其它	期刊：Journal of Micro-nanolithography Mems and Moems 作者：Yannick Vesters; Jing Jiang; Hiroki Yamamoto; Danilo De Simone; Takahiro Kozawa; et al 出版日期：2018-12-12
求助人	吴巷玉在 2023-12-26 17:20:01 发布自贵州，悬赏 10 积分
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