| 标题 |
 Two-photon nanolithography of positive photoresist of AZ 5214E with a spatial resolution at nanoscale AZ 5214E正性光刻胶的纳米空间分辨率双光子纳米光刻
相关领域
光刻胶
纳米光刻
纳米尺度
沟槽
材料科学
拉曼光谱
纳米技术
分辨率（逻辑）
拉曼散射
图像分辨率
光电子学
平版印刷术
光学
物理
计算机科学
制作
医学
替代医学
图层（电子）
病理
人工智能
|
| 网址 | |
| DOI | |
| 其它 |
期刊：Journal of micro/nanopatterning, materials, and metrology 作者：Guo-Juan Xu; Qianhua Li; Chang Cheng; Rong Zou; Xiaojie Li; et al 出版日期：2023-03-02 |
| 求助人 | |
| 下载 | 求助已完成，仅限求助人下载。 |
|
温馨提示：该文献已被科研通 学术中心 收录，前往查看
科研通『学术中心』是文献索引库，收集文献的基本信息（如标题、摘要、期刊、作者、被引量等），不提供下载功能。如需下载文献全文，请通过文献求助获取。
|
HEIKU
bc
Light
Oracle
Xiaoxiao
pcr163
YSM
斯寜
morena
H1998
典雅问寒
MchemG
andong
自然的清涟
SYLH
Xin
wwwwyt
cctv18
Magali
UUU
皖公网安备34019202002308
