The Cu/TiO2 adsorbent modified by Ce-doping removes trace phosphorus impurities from circular hydrogen of a polysilicon chemical vapor deposition furnace

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标题	The Cu/TiO2 adsorbent modified by Ce-doping removes trace phosphorus impurities from circular hydrogen of a polysilicon chemical vapor deposition furnace Ce掺杂改性Cu/TiO2吸附剂去除多晶硅化学气相沉积炉循环氢中的微量磷杂质相关领域杂质煅烧吸附化学气相沉积兴奋剂磷化物氢无机化学材料科学化学化学工程催化作用有机化学光电子学工程类
网址	https://doi.org/10.1016/j.seppur.2024.127148
DOI	10.1016/j.seppur.2024.127148 doi
其它	期刊：Separation and Purification Technology 作者：Ze Luo; Qingxin Liang; Yuanshuai Qi; Guoqiang Huang 出版日期：2024-03-01
求助人	未青易在 2024-12-01 23:17:05 发布自云南，悬赏 10 积分
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