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 Peculiarities of selective isotropic Si etch to SiGe for nanowire and GAA transistors 用于纳米线和GAA晶体管的SiGe选择性各向同性Si蚀刻特性
相关领域
材料科学
蚀刻（微加工）
纳米线
光电子学
晶体管
各向同性
硅
图层（电子）
纳米技术
硅锗
电气工程
光学
物理
工程类
电压
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作者：Christopher Catano; Nicholas A. Joy; Christopher Talone; Shyam Sridhar; Stanislav S. Voronin; et al 出版日期：2019-03-20 |
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