Influence of resin properties to resist performance at ArF lithography

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标题	Influence of resin properties to resist performance at ArF lithography 树脂性能对ArF光刻抗蚀性能的影响相关领域分散性抵抗材料科学单体聚合物摩尔质量分布平版印刷术分数（化学）复合材料表面光洁度高分子化学化学工程分析化学（期刊）化学色谱法图层（电子）工程类光电子学
网址	https://doi.org/10.1117/12.533950
DOI	10.1117/12.533950 doi
其它	期刊：Proceedings of SPIE, the International Society for Optical Engineering/Proceedings of SPIE 作者：S.Y. Yoon; Myungsun Kim; Hong Lee; Do Young Kim; Young Hoon Kim; et al 出版日期：2004-05-14
求助人	平常从蓉在 2024-11-09 08:59:01 发布自广东，悬赏 20 积分
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