Silicon oxide etching mechanism by hydrogen fluoride and methanol vapor mixture

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标题	Silicon oxide etching mechanism by hydrogen fluoride and methanol vapor mixture 氟化氢和甲醇混合气腐蚀氧化硅的机理相关领域氟化氢蚀刻（微加工）氧化物甲醇氢氟化物氧化硅材料科学硅无机化学机制（生物学）化学工程化学纳米技术冶金有机化学氮化硅图层（电子）哲学认识论工程类
网址	https://doi.org/10.35848/1347-4065/ada36e
DOI	10.35848/1347-4065/ada36e doi
其它	期刊：Japanese Journal of Applied Physics 作者：Hiroto Ohtake; Takashi Hattori; Masaki Yamada 出版日期：2024-12-26
求助人	威武画板在 2025-03-05 20:32:03 发布自上海，悬赏 10 积分
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