Influence of Substrates on Structure Development and Concentration of Residual Impurities in Hafnium–Titanium-Oxide Films Grown by Atomic Layer Deposition

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标题	Influence of Substrates on Structure Development and Concentration of Residual Impurities in Hafnium–Titanium-Oxide Films Grown by Atomic Layer Deposition 衬底对原子层沉积铪钛氧化物薄膜结构发展和残留杂质浓度的影响相关领域材料科学无定形固体原子层沉积硅杂质金红石锐钛矿正交晶系钛四方晶系单斜晶系分析化学（期刊）相（物质）无机化学薄膜晶体结构结晶学化学工程冶金化学纳米技术催化作用工程类有机化学光催化生物化学色谱法
网址	https://doi.org/10.1021/acs.cgd.2c01174
DOI	10.1021/acs.cgd.2c01174 doi
其它	期刊：Crystal Growth & Design 作者：Lauri Aarik; Tõnis Arroval; Peeter Ritslaid; Agnes Vask; Hugo Mändar; et al 出版日期：2022-12-14
求助人	三水台在 2025-03-04 11:11:46 发布自福建，悬赏 10 积分
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