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 NBTI Mitigation by Optimized HKMG Thermal Processing in a FinFET Technology FinFET技术中优化HKMG热处理的NBTI缓解
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期刊：IEEE Transactions on Electron Devices 作者：Bin Ye; Yi Gu; Hang Xu; Chengkang Tang; Hao Zhu; et al 出版日期：2022-03-01 |
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