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标题
Study on the etching mechanism of quartz using dual-frequency (60 MHz/400 KHz) capacitively coupled C4F8/Ar/O2 plasma
双频（60MHz/400kHz）电容耦合C4F8/Ar/O2等离子体刻蚀石英机理研究
相关领域
材料科学 蚀刻（微加工） 容性耦合等离子体 石英 等离子体 等离子体刻蚀 光电子学 对偶（语法数字） 机制（生物学） 无线电频率 感应耦合等离子体 分析化学（期刊） 纳米技术 电气工程 复合材料 化学 物理 核物理学 艺术 文学类 图层（电子） 量子力学 工程类 色谱法
网址
https://doi.org/10.1116/6.0004206
DOI
10.1116/6.0004206 doi
其它 期刊：Journal of Vacuum Science & Technology B Nanotechnology and Microelectronics Materials Processing Measurement and Phenomena
作者：C. Li; Liyue Gong; Ziyan Tan; Na Li; Yong-Xin Liu; et al
出版日期：2025-02-18
求助人
aixuexixiao 在 2025-04-10 15:50:36 发布自美国，悬赏 10 积分
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